半导体行业超纯水设备应用说明-行业新闻-新闻资讯-河南天宇水处理工程有限公司
一、半导体行业为什么需要超纯水设备
在半导体制造过程中,晶圆清洗、刻蚀、光刻、显影、封装等多个工序都会用到超纯水。晶圆在加工过程中可能直接接触超纯水,如果水中含有微量杂质,可能影响氧化层质量、金属层性能和光刻工艺效果,进而影响芯片良率。
随着半导体制造工艺不断微缩,对超纯水水质的要求也在提高。半导体级超纯水通常需要控制电阻率、总有机碳、颗粒物、金属离子、细菌和溶解氧等多项指标。例如电阻率可达到18.2 MΩ·cm,25摄氏度条件下,总有机碳不大于1 ppb,颗粒物、金属离子、细菌等也需要控制在较低水平。这些要求高于普通纯水设备的能力范围,因此半导体行业通常需要配置超纯水系统。
二、半导体行业超纯水应用简介
半导体行业对水质要求较高,不同工序对超纯水的使用需求也存在差异。常见应用包括晶圆清洗、切片、研磨、抛光、蚀刻、显影、封装、集成电路制造、液晶显示器生产等环节。
超纯水系统通常由预处理、反渗透、EDI电去离子、抛光混床、终端精滤等单元组成,通过多级处理去除水中的离子、有机物、颗粒物和微生物,使出水水质满足生产用水需求。对于半导体企业来说,超纯水系统的稳定运行和出水水质控制,是生产过程中需要关注的重要环节。
三、河南天宇水处理工程有限公司介绍
河南天宇水处理工程有限公司位于河南省新乡市新乡县,主营环境保护专用设备制造、水资源专用机械设备制造、智能水务系统开发及水处理工程设计与施工,可为电子、半导体、化工、医药、食品饮料等行业提供水处理设备及系统解决方案。
公司业务覆盖设备设计、制造、安装调试及运营维保等环节。公司拥有专 利“一种超纯水制造设备”“一种节能型净水装置”等,并拥有多项废水处理相关专 利。
主要产品包括EDI超纯水设备、双级反渗透纯净水设备、中水回用设备等,产水量可根据项目需求进行设计。
四、天宇超纯水系统适用设备与工艺
河南天宇水处理工程有限公司可生产半导体行业用超纯水设备,并可针对该行业用水特点提供处理方案。常用设备和工艺单元包括:
EDI超纯水设备
其中EDI技术可替代传统酸碱再生混床,实现连续制水,减少化学品再生环节。天宇超纯水系统可采用预处理、双级反渗透、EDI电去离子、抛光混床、终端精滤等组合流程,逐级去除水中的离子、有机物、颗粒物和微生物,设计出水电阻率可达到16 MΩ·cm以上,具体水质指标可根据项目需求进行配置。
五、适用行业与场景
天宇水处理设备可应用于以下领域:
半导体晶片切割制造
单晶硅、多晶硅生产
其他对纯水、超纯水有需求的工业场景
河南天宇水处理工程有限公司
地址:河南省新乡市新乡县翟坡镇杨任旺工业区
如需配置半导体行业超纯水系统,可结合水源条件和用水需求进行方案沟通。河南天宇水处理工程有限公司可提供设备制造与项目对接服务。
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